<strong>ملخص الدراسة:</strong>

حضرت الأغشية الرقيقة للمركب CdS بطريقة الترسيب بالحمام الكيميائي CBD وذلك بمزج المحلول الالكتروليتي الذي يتألف من الثايوريا مصدر الكبريت وأحد مصادر الكادميوم (CdAc2 , CdCl2 ) داخل وسط قاعدي . وأستخدمت طريقة التبخير في الفراغ تحت ضغط منخفض بحدود 10-5Torr وبدرجة حرارة قاعدة 573oK لتحضير أغشية المركب CdTe . أظهرت دراسة التركيب البلوري باستخدام حيود الأشعة السينية لغشاء CdS أن الغشاء متعدد التبلور ويكون ذا تركيب سداسي من نوع Wurtzite قبل وبعد المعاملة الحرارية بـ 673oK عندما يكون مصدر الكادميوم هو CdAc2 والاتجاه المفضل للنمو هو [002] . اما عندما يكون مصدر الكادميوم هو CdCl2 فان الغشاء يكون ذا تركيب مكعب من نوع Zinkblend قبل وبعد المعاملة الحرارية بـ 673oK وأن الاتجاه المفضل للنمو هو [111] . كما بينت دراسة التركيب البلوري لأغشية المركب CdTe أنها متعددة التبلور ذات تركيب مكعب قبل وبعد المعاملة الحرارية بـ CdCl2 ، وان الاتجاه المفضل للنمو هو [111] . ظهرت قمة مميزة للتليريوم بعد المعاملة الكيميائية بـ NP ، وكذلك ظهور قمة مميزة لـ CuXTe بعد تبخير طبقة رقيقة من Cu والمعاملة الحرارية عند 473oK بوجود غاز النتروجين وذلك لتحسين الخواص الكهربائية .

ملخص الدراسة:

حضرت الأغشية الرقيقة للمركب CdS بطريقة الترسيب بالحمام الكيميائي CBD وذلك بمزج المحلول الالكتروليتي الذي يتألف من الثايوريا مصدر الكبريت وأحد مصادر الكادميوم (CdAc2 , CdCl2 ) داخل وسط قاعدي . وأستخدمت طريقة التبخير في الفراغ تحت ضغط منخفض بحدود 10-5Torr وبدرجة حرارة قاعدة 573oK لتحضير أغشية المركب CdTe . أظهرت دراسة التركيب البلوري باستخدام حيود الأشعة السينية لغشاء CdS أن الغشاء متعدد التبلور ويكون ذا تركيب سداسي من نوع Wurtzite قبل وبعد المعاملة الحرارية بـ 673oK عندما يكون مصدر الكادميوم هو CdAc2 والاتجاه المفضل للنمو هو [002] . اما عندما يكون مصدر الكادميوم هو CdCl2 فان الغشاء يكون ذا تركيب مكعب من نوع Zinkblend قبل وبعد المعاملة الحرارية بـ 673oK وأن الاتجاه المفضل للنمو هو [111] . كما بينت دراسة التركيب البلوري لأغشية المركب CdTe أنها متعددة التبلور ذات تركيب مكعب قبل وبعد المعاملة الحرارية بـ CdCl2 ، وان الاتجاه المفضل للنمو هو [111] . ظهرت قمة مميزة للتليريوم بعد المعاملة الكيميائية بـ NP ، وكذلك ظهور قمة مميزة لـ CuXTe بعد تبخير طبقة رقيقة من Cu والمعاملة الحرارية عند 473oK بوجود غاز النتروجين وذلك لتحسين الخواص الكهربائية .